Nova linha Risqué

Risqué lança coleção Technology e apresenta nova técnica de esmaltar as unhas no SPFW Na 32ƒ edição do São Paulo Fashion Week, a Risqué apresentou seu grande lançamento: Risqué Technology. Linha composta por duas bases, uma cobertura brilhante (Top Coat) e um óleo noturno, que auxiliam nos cuidados com as unhas. O destaque é para Risqué Technology Cobertura Brilhante que reduz o tempo de secagem dos esmaltes para 30 segundos. Essa novidade alia a praticidade da secagem rápida ao acabamento que proporciona 66% mais brilho e aumenta durabilidade do esmalte em até dez dias.

A linha ainda conta com Risqué Technology Base Reestruturadora, Risqué Technology Base Niveladora, e Risqué Technology Reparador Noturno. Durante a semana de moda mais cobiçada do País, quem passou pelo lounge da marca também pode esmaltar as unhas com a nova técnica Ombrè, última tendência de moda em decoração de unhas, levada com exclusividade pela marca para o SPFW.

Sucesso em desfiles internacionais, a proposta consiste em fazer um degradê de cores com os esmaltes Risqué, deixando a divisão dos tons suaves e sem uma linha definida. “Ombrè by isqué” é um efeito que pode ser conseguido com diferentes tonalidades de esmaltes Risqué, com cores complementares ou opostas, criando várias combinações.

Fonte: Portal Hair Brasil

Anúncios
Esse post foi publicado em Uncategorized. Bookmark o link permanente.

Deixe um comentário

Preencha os seus dados abaixo ou clique em um ícone para log in:

Logotipo do WordPress.com

Você está comentando utilizando sua conta WordPress.com. Sair / Alterar )

Imagem do Twitter

Você está comentando utilizando sua conta Twitter. Sair / Alterar )

Foto do Facebook

Você está comentando utilizando sua conta Facebook. Sair / Alterar )

Foto do Google+

Você está comentando utilizando sua conta Google+. Sair / Alterar )

Conectando a %s